想象一下您设备上的密封系统刚刚过早失效或无法正常工作。您可能想立即检查密封是否有缺陷,或者密封材料是否无法承受应用的温度或压力要求。或者想知道它的尺寸是否合适或验证挤压程度。但是配套硬件呢?嗯,硬件设计的某些方面可能会影响或破坏密封件正常工作的能力,并可能影响密封元件的动态寿命。配合硬件的表面光洁度——压缩密封件的两个硬件表面的粗糙度——是设计过程中应考虑的因素之一,因为理想的表面光洁度将决定密封性能并可以最大限度地延长密封元件的使用寿命。
表面光洁度要求
图 2 描绘了表面高度和粗糙度的局部变化,显示了一般意义上如何进行表面光洁度测量。很容易想象,如果有太多的峰,如图中左侧的峰,密封材料会因动态接触而磨损或磨损,更不用说适应局部表面高度的所有变化了.此外,图像右侧的山谷展示了口袋是如何形成的,它可以捕获工艺介质或润滑剂,以通过连续的动态循环减少摩擦。为应用中的硬件组件选择合适的表面处理可能很复杂。一般而言,我们建议动态密封件的 Ra(平均粗糙度)为 8 至 12 微英寸,静态密封件的 Ra 值为 16 至 32 微英寸。Greene Tweed经验丰富的工程师可以通过访问您的应用参数来帮助您,指导您获得正确的表面光洁度。
想象一下您设备上的密封系统刚刚过早失效或无法正常工作。您可能想立即检查密封是否有缺陷,或者密封材料是否无法承受应用的温度或压力要求。或者想知道它的尺寸是否合适或验证挤压程度。但是配套硬件呢?嗯,硬件设计的某些方面可能会影响或破坏密封件正常工作的能力,并可能影响密封元件的动态寿命。配合硬件的表面光洁度——压缩密封件的两个硬件表面的粗糙度——是设计过程中应考虑的因素之一,因为理想的表面光洁度将决定密封性能并可以最大限度地延长密封元件的使用寿命。
表面光洁度要求
图 2 描绘了表面高度和粗糙度的局部变化,显示了一般意义上如何进行表面光洁度测量。很容易想象,如果有太多的峰,如图中左侧的峰,密封材料会因动态接触而磨损或磨损,更不用说适应局部表面高度的所有变化了.此外,图像右侧的山谷展示了口袋是如何形成的,它可以捕获工艺介质或润滑剂,以通过连续的动态循环减少摩擦。为应用中的硬件组件选择合适的表面处理可能很复杂。一般而言,我们建议动态密封件的 Ra(平均粗糙度)为 8 至 12 微英寸,静态密封件的 Ra 值为 16 至 32 微英寸。Greene Tweed经验丰富的工程师可以通过访问您的应用参数来帮助您,指导您获得正确的表面光洁度。